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| 型号 |
FPGAM-ex10se |
运转方式 |
重复脉冲式 |
| 激励方式 |
电激励式 |
光路径 |
内光路 |
| 传输信号 |
单电源型 |
速度 |
高速 |
| 通道 |
单通道 |
输出波长 |
157 193 248 308 351 |
| 产地 |
www.felles.cn/zhunfenzi.html |
厂家 |
www.felles.cn/zhunfenzi.html |
这款光刻准分子激光器是专门为半导体工艺和微电子激光处理设计的高性能深紫外准分子激光器,适合超净间使用,满足掩膜版检测,紫外光刻,半导体处理,激光测量等应用要求。
光刻准分子激光器采用zui新的全金属/陶瓷技术,从而获得最长的激光寿命,不需要频繁维护,全面满足微电子和半导体工业超净间应用要求。
(上述价格不一定准确，请您联系我们获得准确报价）
光刻准分子激光器特点
激光寿命高达100亿次脉冲
激光稳定性高达1%
193nm单次ArF气体注入可产生20亿次激光脉宽
阳离子处理工艺适合超净间使用
满足SEMI S2标准
光刻准分子激光器 E10SE规格参数（其它规格参数可提供）
| 工作物质 | F2 | ArF | KrF | eCl | eF |
| 波长 nm | 157 | 193 | 248 | 308 | 351 |
| zui大能量. mJ | 3 | 20 | 35 | 15 | 15 |
| 能量范围 mJ | 1-3 | 5-20 | 10-35 | 7-15 | 7-15 |
| zui大稳定能量200Hz | 2.5 | 15 | 30 | 15 | 12 |
| zui大平均功率W @300/600Hz | 0.6/1.2 | 4/7 | 6/12 | 3/6 | 3/6 |
| 稳定性标准偏移 | < 1% at max. repetition rate | ||||
| 重复频率, Hz | 300/600/1000 | ||||
| 动态气体寿命 | 200E6 | 200E6 | 500E6 | 100E6 | 300E6 |
| 静态气体寿命@ 50% 能量 | 15 days | 60 days | 90 days | >1 Year | 90 days |
| 脉宽, ns | 12-15 | ||||
| 光束大小, mm | 5 3 | 8 3 | |||
| 光束发散角（全角）, mRad | 1 2 | ||||
| 制冷 | 空气 | ||||
| 光学窗口服务间隔 | 500E6 | 300E6 | 1000E6 | 100E6 | 300E6 |
13820163359