联系人：陈经理
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| 品牌 |
孚光精仪 |
型号 |
FPKLOE-Dilase650 |
| 输出功率 |
（需根据具体产品规格确定，此处不填写具体数值） |
中心波长 |
365（由输出波长推断） |
| 阈值电流 |
（需根据具体产品规格确定，此处不填写具体数值） |
光路径 |
内光路 |
| 颜色分类 |
无（激光光刻机通常不涉及颜色分类） |
斜率效率 |
（需根据具体产品规格确定，此处不填写具体数值） |
| 偏振消光比 |
（需根据具体产品测试数据确定，此处不填写具体数值） |
波段范围 |
近紫外 |
| 相对强度噪声 |
（需根据具体产品测试数据确定，此处不填写具体数值） |
边模抑制比 |
（需根据具体产品测试数据确定，此处不填写具体数值） |
| 运转方式 |
连续式 |
激励方式 |
电激励式 |
| 传输信号 |
单电源型 |
速度 |
高速 |
| 通道 |
双通道 |
加工定制 |
是 |
| 适用行业 |
光电通信、半导体制造等 |
设备类型 |
激光光刻机 |
| 特点 |
高分辨率、多功能、高速运转 |
输出波长 |
365nm |
| 激光类型 |
近紫外激光 |
工作环境 |
室内，无尘环境 |
高分辨率激光直写光刻机是全球ling先的多功能激光光刻机，它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构，直写面积高达6英寸，最小特征尺寸（宽度）可达1微米，适合掩膜，半导体，玻璃，晶体，薄膜等诸多衬底。
高分辨率激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式，确保直接轨迹偏离小于100nm。微型激光直写光刻机具有电动光学聚焦系统，提供快速jing准的聚焦功能，从而适合各种厚度衬底的要求，并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配，增强清洁程度，提高工作量和用户安全程度。
高分辨率激光直写光刻机兼容大多数商用光刻胶，比如SU8，shipley, AZ等，我们还对K-CL胶特别优化，用于微结构应用。
高分辨率激光直写光刻机特色
非常紧凑的桌面型设计
掩膜制作和激光直写
激光光源375nm 或405nm 任选
兼容所有商用光刻胶
对比度高达1x20
自动聚焦
竖直直写或扫描直写模式
高分辨率激光直写光刻机参数
直线直写速度：高达500mm/s
位移台分辨率：100nm
重复精度：100nm
晶圆直写面积：1-6英寸
衬底厚度：250um-10mm
激光光斑大小：1um-50um
标准准直精度：500nm
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