IMM CIN52-6x1.2 清洁喷嘴带速度控制特氟龙插座

IMM CIN52-6x1.2 清洁喷嘴带速度控制特氟龙插座

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品牌 友定贸易
型号 CIN52-6x1.2
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产品详情
型号

CIN52-6x1.2

  品牌与型号

  本产品为IMM品牌推出的CIN52-6x1.2清洁喷嘴(带速度控制特氟龙插座),专为需要控制清洁介质流量与方向的高要求工业场景设计。产品由制造商生产,核心功能是通过特氟龙材质的插座与可调节喷嘴,实现压缩空气、液体等介质的稳定输出,适配自动化清洗设备或定制化清洁系统,适用于电子制造、精密机械加工、光学仪器维护等对清洁精度与介质控制有严格要求的领域。

  产品介绍

  IMM CIN52-6x1.2清洁喷嘴采用模块化设计,核心为带速度控制的喷嘴组件,通过特氟龙材质的插座实现与清洗设备管路的快速连接。喷嘴可输出压缩空气、液体等清洁介质,结合速度控制功能(手动或自动调节),控制介质流量与喷射力度,适配不同污渍类型(如油污、粉尘、金属碎屑)的清洁需求。特氟龙插座具有耐腐蚀、耐高温、低摩擦的特性,确保长期使用下的密封性与介质传输稳定性。

  功能特点

  特氟龙插座设计:喷嘴接口采用特氟龙(聚四)材质,具有优异的耐腐蚀性(可适应酸碱、有机溶剂环境)、耐高温性(工作温度≤260℃)与低摩擦系数,确保与清洗设备管路的快速、密封连接,减少介质泄漏风险,延长接口使用寿命。

  速度控制功能:喷嘴配备速度调节装置(手动旋钮或电动控制),可调节清洁介质的流量与喷射速度(如压缩空气的流速、液体的喷射压力),适配不同清洁场景的需求。例如,针对顽固油污可提高介质速度增强清洁力,针对微小粉尘则降低速度避免损伤工件表面。

  多介质兼容:支持压缩空气(压力0.5-1.5MPa)、液体(如酒精、去离子水)等清洁介质,可根据污渍类型切换介质类型,提升清洁针对性。喷嘴内部流道设计优化,减少介质残留,避免交叉污染。

  模块化与易集成:喷嘴体积紧凑(长度≤150mm,直径≤50mm),可轻松集成至自动化清洗设备(如IMM CombiCleaner系列)、机器人手臂或定制化清洁系统中;提供标准接口(如螺纹、法兰),适配不同设备的管路连接需求。

  耐腐蚀与易维护:喷嘴主体采用不锈钢316L材质,接触介质的部分(如流道、喷嘴口)覆盖特氟龙涂层,进一步提升耐腐蚀性;喷嘴口支持快速拆卸更换,维护成本低;定期清理可避免介质堵塞,确保长期稳定运行。

  技术参数

  喷嘴参数:

  喷嘴数量:单组(可扩展至多组并联)

  介质类型:压缩空气、液体(如酒精、去离子水)

  喷嘴压力:0.5-1.5MPa(可调,通过速度控制装置)

  喷射方向:水平0°、±30°(可调,部分型号支持垂直90°)

  流量范围:压缩空气:50-500L/min;液体:10-200L/min(可调)

  插座参数:

  材质:特氟龙(聚四)

  接口类型:螺纹(G1/4、G1/2)或法兰(DN10、DN15)

  工作温度:-50℃至260℃

  耐压能力:≤2.0MPa

  尺寸与重量:

  设备尺寸:长度120mm×直径45mm(单喷嘴)

  重量:0.3kg(单喷嘴)

  应用领域

  电子制造:在PCB板装配、芯片封装等工序中,清洁元件表面残留的助焊剂、金属碎屑,通过速度控制调节介质流量,避免损伤精密电子元件;特氟龙插座适配酸碱清洗液,满足半导体行业对材料兼容性的要求。

  精密机械加工:对轴承、齿轮等部件的微小孔隙或凹槽进行清洁,通过调节喷嘴速度去除切削液残留或金属毛刺,特氟龙材质确保与润滑油、冷却液的长期接触无腐蚀。

  光学仪器维护:清洁相机镜头、激光设备光学元件的表面,通过低速液体喷射去除指纹、油渍,避免高速气流划伤光学涂层;特氟龙插座的低摩擦特性减少管路连接阻力,提升清洁稳定性。

  医疗设备生产:在手术器械、诊断设备的制造过程中,控制消毒剂或清洗液的喷射速度,确保表面无菌且无残留;特氟龙材质符合医疗级卫生标准,适配高温蒸汽或化学溶剂的清洁需求。

  实验室设备:维护色谱仪、光谱仪等精密仪器的采样口,通过调节喷嘴速度去除实验残留的样品或粉尘,特氟龙插座的耐腐蚀性适配多种化学试剂,确保长期使用的可靠性。

  维护与保养

  喷嘴需定期检查是否堵塞(每300小时),若使用液体介质,需清理流道避免残留;特氟龙插座需检查密封性(每500小时),确保无介质泄漏;喷嘴口支持快速拆卸,可单独更换或清洗;若长期停用,需排空管路内介质,避免腐蚀;定期校准速度控制装置,确保流量调节精度。

  总结

  IMM CIN52-6x1.2清洁喷嘴(带速度控制特氟龙插座)通过特氟龙材质的插座与可调节喷嘴设计,为用户提供了、耐用的清洁介质控制解决方案。其多介质兼容、模块化集成能力,结合耐腐蚀材料与易维护特性,适用于需要高精度清洁或定制化介质控制的场景,是提升清洁效率与工艺稳定性的关键组件。

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