纳米硅超细研磨分散均质机

　　纳米硅超细研磨分散机，纳米硅分散设备，锂离子电池用纳米硅混合分散设备，纳米硅研磨细化设备，德国进口研磨分散机，高剪切研磨分散机

　　IKN研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

　　Si与372mAh / g的储锂容量4200mAh / g),作为锂离子二次电池负极材料已成为目前国际上的研究热点。但是Si在(膨胀率达

　　纳米硅的制备方法，将粒径为20微米的硅粉按照固含量为50%的比例加入到分散剂中，高速分散均匀后，加入到循环式研磨机中，在温度为60℃的情况下，研磨20小时，即得到纳米硅。所述的分散剂为下列之一或两种以上任意比混合物：水、乙醇、、、、丁醇、乙二醇。具有生产工艺简单，生产成本低等优点；制备的纳米硅纯度高，粒径均匀，稳定性好，可用于金属表面处理或者替代纳米碳粉或石墨，作为锂电池负极材料，大幅度提高锂电池容量。

　　CMD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。

　　CMD2000模块化设计主要由两层分散头构成，工作时，物料通过投料口进入分散腔，首先到达层分散头进行处理，由于马达带动转子齿列高速运转，产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头，然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用，之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切，接着流出的物料进入第二层分散头腔体，对处理过的物料再次进行剪切（原理同上），从而确保混合分散获得很窄的粒径分布，获得更小的液滴和颗粒，生成的混合液稳定性更好，满足生产时对于粒径的要求。

　　CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

　　第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

　　CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

　　研磨分散机的特点：

　　1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

　　2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

　　3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

　　4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

　　设备其它参数:

　　设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

　　电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、

　　电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

　　电机选配件： PTC 热保护、降噪型

　　研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷

　　研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

　　研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理

　　进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍

　　研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器