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微阵列清洗干燥工作站是为燥微阵列清洗干燥和荧光原位杂交FISH玻片清洗干燥而设计的微阵列干燥清洗仪器,是分子杂交领域的理想自动玻片清洗干燥仪器。
微阵列清洗干燥工作站可以处理市面上任何商用或定制的微阵列和玻片或芯片,用于任何类型的微阵列实验,如基因表达,微阵列比较基因组杂交 CGH array,ChIP-on-chip,miRNA。
微阵列清洗干燥工作站特色
自动清洗干燥站大大提高了杂交的微阵列的的质量，
具有更高信号强度，
更低的背景噪音和更为均匀干净的玻片，
直接可用于扫描使用。
从而避免这些步骤常出现的负面影响。
微阵列清洗干燥工作站将芯片放置在仪器的载玻片架上（最多可放20个芯片)。最多可以使用5个温度控制的清洗器采用理想的预定程序清洗，通车清洗器被覆盖起来，以便更好的进行温度控制。自动清洗干燥站WALY 机械臂将载玻片架在不同的洗涤器间转移，严格控制清洗时间和温度参数，通过一个可调的垂直搅拌器改善清洗功效，在经过一个清洗器后，机器臂自动将玻片转移到其离心机进行有效地干燥。玻片准备好进行扫描。或者，可在一个稳定的溶液中完成干燥：仪器控制玻片在稳定溶液中的移动速度。自动清洗干燥工作站具有多功能控制显示屏，能够加载并启动预先编程的清洗程序。清洗干燥站提供直观的图形用户界面，方便有效的操作程序管理，并可以为用户定制优化的操作程序，大大提高微阵列和FISH的清洗质量和实验的可重复性精度和可靠性，帮助用户节省宝贵的时间和成本，提高微阵列实验的成功几率。
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