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| 型号 |
FPNAN-NS-3600 |
安装方式 |
台式 |
| 放大倍数 |
10000-100000X |
重量 |
120 |
| 厂家 |
www.felles.cn/lunkuoyi.html |
|
3D激光共聚焦形貌显微镜是一种高速共焦激光扫描显微镜（CLSM），用于可靠的三维测量，从一系列光学剖切图像中提供目标物体的三维描述，通过该算法，横截面图像被直接转换为三维轮廓数据。这种独特的原始截面图像，直观地解释，使表面轮廓数据优于其他光学技术。
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3D激光共聚焦形貌显微镜特点
-高分辨率无损光学三维测量
-实时共焦成像
-各种光学变焦
-同时亮场和共焦成像
-具有精细自动聚焦的自动增益搜索
-倾斜补偿
-简易分析模式
-精密可靠的高速测高
-通过半透明基板检查特征
-无样品制备
-宽范围检测的图像拼接
3D激光共聚焦形貌显微镜应用
-半导体：IC图形，凸点高度，线圈高度，缺陷检查，CMP工艺
-FPD产品：触摸屏检查，ITO图案，LCD柱垫高度
-MEMS器件：结构的三维轮廓，表面粗糙度，MEMS图形
-玻璃表面：薄膜太阳能电池，太阳能电池纹理，激光图案
-材料研究：模具表面检查，粗糙度，裂纹分析
3D激光共聚焦形貌显微镜测量表面粗糙度
3D激光共聚焦形貌显微镜规格参数
| 型号 | 显微镜 | NS-3600 | Remark | |||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 物镜放大倍数 | 10× | 20× | 50× | 100× |
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| 观察/
测量范围
| 水平 (H): μm | 1400 | 700 | 280 | 140 |
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| 竖直 (V): μm | 1050 | 525 | 210 | 105 |
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| 工作距离: mm | 17.5 | 4.5 | 1.0 | 1.0 |
| |
| 数值孔径 (N.A.) | 0.30 | 0.45 | 1.0 | 1.0 |
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| 观察/测量的光学系统 | 小孔聚焦光学系统 |
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| Height Measurement | Measuring scan range | 10 mm |
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| Display resolution | 0.001 μm |
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| Repeatability σ | 0.02 μm | Note 1 | ||||
| Width measurement | Display resolution | 0.001 μm |
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| Repeatability 3σ | 0.03 μm | Note 2 | ||||
| Frame memory | Pixel count | 1024x1024, 1024×768, 1024×384, 1024×192, 1024×96 |
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| For confocal image | 12 bit |
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| For color image | 8-bit for RGB each |
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| For height measurement | 16 bit |
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| Frame rate | Surface scan | 20 Hz to 160 Hz |
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| Line scan | ~8 kHz |
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| Laser beam light source for
confocal measurement
| Wavelength | Red laser, 638 nm |
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| Output | ~2 mW |
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| Laser Class | Class 3b |
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| Laser light-receiving element | PMT (photomultiplier tube) |
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| Light source for optical observation | Lamp | LED |
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| Color camera for Optical observation | Imaging element | Color CCD image sensor |
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| Recording resolution | 1296x966 |
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| Data processing unit | Dedicated PC |
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| Power supply | Power-supply voltage | 100 to 240 VAC, 50/60 Hz |
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| Current consumption | 500 VA max. |
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| Weight | Microscope | Approx. ~50 kg (Measuring head unit : ~12.5 kg) |
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| Controller | ~8 kg |
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| Vibration isolating system | Pneumatic isolator |
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Note 1 :
100 times measurement of standard sample (1μm step height) with 100× / 0.9 objective.
Note 2 :
100 times measurement of standard sample (5μm pitch) with 100× / 0.9 objective.
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