联系人：陈经理
邮箱：info@f-lab.cn
电话：18326124276
地址： 上海浦东新区上海自由贸易试验区德堡路38号2幢楼三层
| 品牌 |
辅光仪器 |
型号 |
FPMRC-CMP |
| 类型 |
平面抛光机 |
电源类型 |
交流电源 |
| 额定电压 |
220V |
变速方式 |
无极变速 |
这款多功能CMP抛光机是全球的CMP研磨机和CMP精研机,它适合所有的科研和工业用途的材料抛光和材料研磨工作,是美国化学物理抛光技术的杰出代表.这款多功能CMP抛光机采用超高质量制造,融入重型铸造工艺和灵活的驱动技术,确保最小的振动,因此可在各种样品的抛光领域获得精度的研磨抛光结果。
多功能CMP抛光机特点
重型中心轴承承受高达60kg负载
抛光片方便更换
砂浆容易去除清洗
模块化设计，易于维护
控制面板方便显示
多功能CMP抛光机技术参数
样品盘径：250-400mm
电力要求：240V，800W
直流电机
重量：70kg
尺寸： 660x650x250
18326124276