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| 品牌 |
孚光精仪 |
是否支持加工定制 |
否 |
| 包装规格 |
标准包装 |
操作方式 |
全自动 |
| 成像幅面 |
最大200mm |
电源 |
220 |
| 分辨率 |
最小0.0001mm |
工作气压 |
标准大气压 |
| 功率 |
2k |
光源 |
紫外LED |
| 光照均匀度 |
99.5% |
规格 |
FPKLOE-UV-KUB3 |
| 类型 |
紫外线曝光机 |
扫描方式 |
紫外掩膜对准 |
| 适用范围 |
印前处理 |
型号 |
FPKLOE-UV-KUB3 |
| 重量 |
75 |
最大晒版面积 |
200mm |
| 印刷速度 |
依据具体印刷条件 |
重复精度 |
0.0001mm |
桌面型紫外掩膜对准机是全球装备有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜对准器中的理想冷光源紫外掩膜对准机。能够在4英寸工作面积上实现2微米微结构，对准精度高达3微米，广泛用于光刻掩膜对准曝光，适用于微流体芯片，微电子，光学微结构,MEMS等微纳器件的光刻制作。
桌面型紫外掩膜对准机参数
分辨率：2微米
接收掩膜大小：5英寸 （2英寸可选）
接收衬底大小：2-4英寸， 50x50mm 到 100x100mm
系统可视分辨率：3微米 （1.5微米可选）
掩膜/衬底测量距离分辨率：0.5微米
theta衬底位移分辨率：5.10-4度
YZ衬底位移分辨率：0.4微米（0.2微米可选）
波长：365nm 或 405nm
功率密度：35mW/cm^2
曝光中衬底升温：<1摄氏度
曝光时间：1秒到18小时
可编程曝光循环：>100个
尺寸：475x475x478mm
重量：55kg
触摸屏：15.6寸彩色触摸屏
电力要求：220V
用电功耗：180W
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