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生产工艺
磁控溅射镀膜
改进型磁控溅射镀膜技术提供了无与伦比的过程控制精度和可靠的批次一致性,从而能够生产各种具有复杂光谱特性的滤光片。滤光片具有业界最高的透过率和截止深度,并且具有卓越的环境耐受性和使用寿命。
目录产品提供业界唯一的终身质保。


质量控制 - 表面质量
Zygo 干涉仪和自制的光学自准直仪,能够精确测量透射波前畸变 (TWD),表面平整度 (Flatness) 和楔角(Wedge)。

宽场荧光显微镜

单波段滤光片组
单波段滤光片组分为 AT 高性价比系列和 ET 高端系列,均采用磁控溅射镀膜工艺。具有高透过率、高截止深度和高陡度的特点。AT 和 ET 系列都享受终身质保。
AT 和 ET 系列主要区别如下:


AT 系列 - 单波段带通滤光片组

AT 系列 - 单波段长通滤光片组

AT 系列 - 量子点 (Qdot) 滤光片组

ET 系列 - 单波段带通滤光片组


ET 系列 - 单波段长通滤光片组


宽场荧光显微镜
多波段滤光片组
多色荧光标记和成像在生命科学和医疗领域具有非常重要和广泛的应用。常规的方法是采用多个单波段滤光片组分别收集对应的荧光图像,然后再将多幅图像叠加成一幅多色图像。这种方法可以提供最佳的信噪比,并且能最大程度的抑制通道间的串色,但缺点是速度慢,同时为了避免图像偏移的产生,只能选用零漂移的滤光片组,如 ET 系列。为了满足对高速多色荧光成像的需求,磁控溅射镀膜工艺通过精细的膜层设计和控制,能够实现复杂的光谱特征,在可见光区域能实现多达五通道的多波段滤光片。ET 系列多波段滤光片组具有高透过率,高截止深度和高光谱陡度的特点,在满足高速成像需求的同时,能提够优异的信噪比。根据激发片和发射片类型的不同,ET 系列多波段滤光片组分为四类,可满足不同多色高速成像的需求。不同类型滤光片组配置的组成、各自优点、示例谱图和安装方式如下:

1. 激发片、发射片和二向色镜安装在显微镜 cube 中;
2. 需单独配置滤光片转轮。


ET 系列 - 多波段滤光片组 (Full Multiband, 多波段激发片 & 多波段发射片 )

ET 系列 - 多波段滤光片组 (Pinkel Multiband, 单波段激发片 & 多波段发射片 )

ET 系列 - 多波段滤光片组 ( 多波段激发片 & 单波段发射片 )

ET 系列 - 多波段滤光片组 (Sedat Multiband, 单波段激发片 & 单波段发射片 )

比率测量
ET 系列 - 比率测量滤光片组