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近红外 (NIR) 线性偏振膜
特别适合 NIR 偏振应用
800 - 2200nm 下的消光比 >400:1
在各种波长范围内均拥有高效率
采用耐用的聚合物基片
近红外 (NIR) 线性偏振膜由耐用的聚合物基片组成，特别适合从可见光到近红外 (400 - 2200nm) 的成像应用。该偏振聚合物薄膜的平均透射率为 39%，在 760 和 2200nm 的入射随机偏振光下的偏振效率大于 99.6%。多种矩形尺寸可用于容纳从光束直径较小的低功率 NIR 激光器到较大 LED 光束的所有光源。近红外 (NIR) 线性偏振膜用于工业成像和实验室应用，即减低输出近红外激光器和 LED 的强度，或减少近红外光电检测器记录的图像中的眩光。偏振轴标记在偏振聚合物膜的保护性挡板上。
注意:
在*次使用前，请移除保护罩。
近红外 （NIR） 线性偏振膜通用规格
| 消光比: | 407:1 (Average @ 800 - 2200nm) |
| 厚度 (mm): | 0.50 ±0.1 |
| 波长范围 (nm): | 400 - 2200 |
| 涂层: | Uncoated, Protective Film on Both Sides |
| 构造 : | Polarizing Film |
| 工作温度 (°C): | 85 to -55 (3 hours) |
| 基底: | Cellulose Triacetate (TAC) |
| Polarization Efficiency (%): | 99.83 @ 400 - 760nm 99.63 @ 761 - 2200nm |
产品信息
| 尺寸 (mm) | 产品编码 |
| 12.5 x 12.5 | #12-472 |
| 25.0 x 25.0 | #12-473 |
| 50.0 x 50.0 | #12-474 |
| 76.0 x 76.0 | #12-475 |
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