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| 纯度 |
一级品多种 |
厚度 |
不同规格 |
| 颜色 |
多种可定制 |
透光率 |
高峰值98% |
| 耐热性 |
耐温>500度 |
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摘要：低压化学气相沉积、固相晶化、准分子激光晶化、快速热退火、金属诱导晶化、等离子体增强化学反应气相沉积等是目前用于制备多晶硅薄膜的几种主要方法。它们具有各自不同的制备原理、晶化机理、及其优缺点。
关键词：氢化非晶硅多晶硅晶化
hepreparationmethodsofpolycrystallinesiliconfilm
Abstract:Atpresent，Thepreparationmethodsofpolycrystallinesiliconfilm，includingLowpressureChemicalVaporDeposition、SolidePhaseCrystallization、ExcimerLaserAnnealing、RapidThermalAnnealing、MetalInducedCrystallization、plasmaenhancedchemicalvapordeposition，arebeingdeveloped.wereviewtypicalpreparationmethodsofpolycrystallinesil
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