1.可观的电池效率提升，根据不同的工艺基础，可提升0.2%-0.3%。
2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体（专利技术），无需额外设备投入，无需增加工序。
3.无需使用NaOH, HNO3 H2SO4，更环保、更低的化学品耗用成本。
4.实现硅片浸入溶液传输并抛光（专利技术），无需“水上漂”或“滚轮带液”，无刻蚀线，工艺稳定，容易控制。
5.解决了反应气泡不易散发的难题，抛光效果更好，碎片率更低。
6.专用抛光液，背面抛光效果更好，容易控制，产量大，成本低，废水低污染，易处理，节约废水处理成本。
7.背抛光技术与SE，背面钝化（AL2O3），背接触技术，两次印刷，MWT等主流技术可叠加，兼容性好，提升背面技术革新空间。
8.技术便于实现系统集成或模块化，方便客户选择整机或改造。
9.完全拥有自主知识产权、新型提效解决方案。
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