直流磁控溅射电源

　　一、直流磁控溅射电源-A型

　　1．简介：直流磁控溅射电源工作于高频变换模式，直流输出，电源电流调整通过改变高频变换的脉冲宽度来实现。电源具有良好的负载特性，性价比高，适用于金属及反应膜层环境使用。

　　2．产品特点：

　　（1）输出高频脉动直流电，纹波小，响应速度快。

　　（2）人机交互操作界面，DSP数字芯片控制，RS485通信；远/近控切换，IGBT逆变。

　　（3）操作界面自定义恒流、恒压、恒功率控制。

　　（4）内置储能电子电抗，自动匹配负载。

　　（5）抑制靶材弧光放电，理想的电压陡降特性，自动识别伪打火

　　（6）完善的保护功能，设有过流、过压、过热、限流、短路等多重保护。

　　（7）工艺重复性好，成膜速度快， 实现高质量的溅射膜层。

　　（8）单极电磁能器件储电输出。

　　（9）C语言及汇编语言单片机编程，并行数据传输/键盘矩阵操作，部分性能优于组态触摸屏/PLC。

　　二、直流磁控溅射电源-B型

　　1．简介：直流磁控溅射电源工作于高频变换模式，直流输出，电源电流调整通过改变高频变换的脉冲宽度来实现。电源具有良好的负载特性，性价比高，适用于金属及反应膜层环境使用。

　　2．产品特点：

　　（1）输出高频脉动直流电，纹波小，响应速度快。

　　（2）人机交互操作界面，DSP数字芯片控制，RS485通信；远/近控切换，IGBT逆变。

　　（3）操作界面自定义恒流、恒压、恒功率控制。

　　（4）内置储能电子电抗，自动匹配负载。

　　（5）抑制靶材弧光放电，理想的电压陡降特性，自动识别伪打火

　　（6）完善的保护功能，设有过流、过压、过热、限流、短路等多重保护。

　　（7）工艺重复性好，成膜速度快， 实现高质量的溅射膜层。

　　（8）单极电场能器件储电输出。

　　（9）单片机C语言及汇编语言编程，键盘矩阵并行数据传输，瞬态响应快，误码率低，部分性能优于组态触摸屏/PLC。

　　三、直流磁控溅射电源-C型

　　1．简介：直流磁控溅射电源工作于高频变换模式，直流输出，电源电流调整通过改变高频变换的脉冲宽度来实现。电源具有良好的负载特性，性价比高，适用于金属及反应膜层环境使用。

　　2．产品特点：

　　（1）输出高频脉动直流电，纹波小，响应速度快。

　　（2）人机交互操作界面，DSP数字芯片控制，RS485通信；远/近控切换，IGBT逆变。

　　（3）操作界面自定义恒流、恒压、恒功率控制。

　　（4）内置储能电子电抗，自动匹配负载。

　　（5）抑制靶材弧光放电，理想的电压陡降特性，自动识别伪打火

　　（6）完善的保护功能，设有过流、过压、过热、限流、短路等多重保护。

　　（7）工艺重复性好，成膜速度快， 实现高质量的溅射膜层。

　　（8）单极(电磁能+电场能)器件储电混合输出。

　　（9）单片机C语言及汇编语言编程，键盘矩阵并行数据传输，瞬态响应快，误码率低，部分性能优于组态触摸屏/PLC。

　　四、技术参数【注：ZL-60KW为(主机+从机)2单元组合】