氮化钛靶材TiN磁控溅射靶材

　　科研实验专用氮化钛靶材TiN磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

　　产品介绍

　　氮化钛（TiN）熔点：2950℃，密度：5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗热冲击性好。其熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高，而密度却比大多数金属氮化物低，因此是一种很有特色的耐热材料。在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应，TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用，因此TiN坩埚是研究刚液与一些元素相互作用的优良容器。TiN有着诱人的金黄色、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和超导性，可应用于高温结构材料和超导材料。

　　产品参数

　　中文名 氮化钛 化学式 TiN

　　熔点 2950℃ 密度 5.43g/cm3

　　纯度 99.9%

　　支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

　　服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

　　产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

　　适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

　　质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

　　加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

　　陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

　　我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

　　注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

　　建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。