三氧化钼靶材MoO3磁控溅射靶材

　　科研实验专用三氧化钼靶材MoO3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

　　产品介绍

　　三氧化钼（MoO3）一般为白色至灰色，墨绿色，微溶于水；熔点：795℃，沸点：1155℃；加热时变黄色，冷时即复原；即使在低于熔点情况下，也有显著的升华现象；与碱溶液和许多金属氧化物反应生成钼酸盐和多钼酸盐。用作制取金属钼及钼化合物的原料；石油工业中用作催化剂；还可用于搪瓷釉药颜料及药物等；可作为添加型阻燃剂，具有阻燃和抑烟双重功能，与其他阻燃剂复配可降低成本，提高阻燃性，减小发烟量。

　　产品参数

　　中文名 三氧化钼 化学式 MoO3 分子量 144

　　熔点 795℃ 沸点 1155℃ 密度 4.69g/cm3

　　支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

　　服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

　　产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

　　适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

　　质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

　　加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

　　陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

　　我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

　　注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

　　建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。