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| 型号 |
VDN401 |
壳体型式 |
节段式 |
对抗腐蚀性气体！爱发科耐高温涂层真空泵护航ALD工艺稳定性
应用场景
爱发科耐高温涂层真空泵专为 原子层沉积（ALD）工艺 设计，尤其适配以下严苛场景：
1. 高k介质沉积（如HfO?、Al?O?）
- 需耐受Cl?、WF?等强腐蚀前驱体气体，确保薄膜介电性能一致性。
2. 3D结构填充（如DRAM电容、3D NAND通道孔）
- 在深宽比＞50:1的结构中实现无缺陷保形沉积。
3. EUV光刻胶底层沉积
- 对抗含金属有机化合物（MO源）的化学侵蚀，保障光刻图形精度。
产品特点
1.耐腐蚀等离子喷涂涂层
- 采用氮化铝（AlN）与碳化硅（SiC）复合涂层，耐腐蚀性提升 5倍（对比传统不锈钢）。
- 耐受温度范围 -50℃至400℃，适配ALD工艺中的快速升降温循环。
2. 全干式无油设计
- 消除润滑油与腐蚀性气体反应风险，避免生成颗粒污染物。
3. 模块化密封结构
- 快拆式密封法兰设计，减少维护时气体泄漏风险（泄漏率＜1×10?? Pa·m3/s）。
4. 智能气体兼容模式
- 内置传感器自动识别气体类型（如NH?、O?），调节泵体转速与温度保护阈值。
-核心优势
| 优势维度
| 技术表现
| 客户价值
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| 抗腐蚀寿命
| 涂层寿命≥30,000小时
| 维护周期延长至 2年，降低40%维护成本
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| 工艺稳定性
| 压力波动≤±0.5%（连续1000循环）
| 薄膜厚度偏差＜0.2nm，良率提升 12%-15%
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| 能耗效率
| 变频驱动节能模式，功耗降低 25%
| 单台年节电 3.2万度，ESG评级优化
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| 兼容性
| 支持Ar、N?、H?等吹扫气体快速切换
| 适配多材料ALD工艺，减少设备重复投资
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实证案例
某12英寸逻辑芯片厂ALD工艺升级
- 挑战：使用WF?沉积钨栅极时，传统泵体因腐蚀导致每500小时需停机维护，良率损失8%。
- 解决方案：替换为爱发科耐高温涂层真空泵，配合 **在线腐蚀监测系统。
- 成果：
- 连续运行 6,000小时无性能衰减，维护成本减少 52%。
- 钨薄膜电阻率标准差从 4.5%降至 1.2%，芯片性能一致性达标率 99.6%。
爱发科耐高温涂层真空泵通过三重防护技术（抗腐蚀涂层、无油密封、智能控制），直面ALD工艺中 强腐蚀、高精度、快循环的极限挑战，成为先进制程的可靠保障：
1. 技术突破：氮化铝复合涂层将腐蚀速率降低至 0.01μm/年，寿命行业。
2.商业价值：单台设备全生命周期成本降低 35%，助力客户实现 28个月ROI。
3.未来兼容：预留AIoT接口，支持与工厂MES系统联动，实现预测性维护升级。
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