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瓦克WACKER气相二氧化硅HDK®N20通过在氢氧焰内高温水解挥发性氯硅烷而制得。N20的特性是具有很好的防沉淀，防垂流，增稠,提高介电性能,促进自由流动,自清等,是一种效果优良的自由流动助剂，正负体系外加控制剂，括性组分(催化剂等)载体,造粒助剂,加工助剂,防结块剂,稳定剂。
品 牌：瓦克WACKER
型 号：HDK® N20储存：干燥密封贮存，不能与强碱性物质接触。
HDK®气相二氧化硅的原生粒子为5~50nm，聚集体粒径为0.1~0.5um，原生粒子不会以单独的形式存在。焰解反应可值得不同比表面积的HDK®。原生粒子粒径、聚集体越大，比表面积相对越小。 外观 蓬松白色粉末 BET表面积 200±30m2/g 原生粒子平均粒径 12 nm 压紧密度近似值 40 g/l 折射率 1.46 硅烷醇密度 2 SiOH/nm2 PH值 3.8-4.3 SiO2含量 ≥99.8 % 密度为50-60g时的电阻 ＞10(13) 干燥失重105°C2h（出厂时） ＜2 % 灼烧失重1000℃2h ＜1.5 % 筛余物 ＜0.04 这些数据都是仅为参考性数据，各项指标在不同的应用中有可能不同。
HDK®气相法二氧化硅的高化学纯度也是该产品可用于药物、生物化学制剂、化妆品和食品领域的一个原因。
在气相法二氧化硅颗粒表面存在硅氧烷和硅醇基团，硅醇基团的存在说明表面未处理的HDK®气相二氧化硅具有亲水性。在多数情况下，HDK®气相法二氧化硅通过这些硅醇基与固体、液体和气体相互作用。
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