| 型号 |
TX-9699 |
类型 |
金属元素分析仪器 |
| 安装方式 |
固定式 |
加工定制 |
是 |
| 是否进口 |
否 |
是否跨境货源 |
否 |
| 厂家 |
南京同兴高速分析仪器有限公司 |
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TX-9600型直读光谱仪[全谱仪]技术参数特点及配置简单介绍
一、仪器的主要特点
| 高性能光学系统
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光学系统激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光学室,实现光路直通,有效的降低光路损耗;
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采用高精度的CMOS元件可测定非金属元素如C、P、S、B、As、N以及各种金属元素含量;
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测定结果,重复性及长期稳定性。
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自动光路校准
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自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作;
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仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定。
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插拔式透镜设计
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真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离,可在真空系统工作状态下进行操作,光学透镜采用插拔式透镜结构,日常清洗维护方便快捷。
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真空室一体化
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独特的光室结构设计,使真空室容积更小,抽真空时间仅普通光谱仪的1/2;
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真空室一体化设计及高精密的加工,使真空保持的更加持久。
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真空防返油技术
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多级隔离的真空防返油技术,采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离
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中间增加了真空滤油装置,确保真空泵中油不进入真空室,保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。
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开放式激发台
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开放式激发台机灵活的样品夹设计,以满足客户现场的各种形状大小的样品分析;
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配合使用小样品夹具,线材分析可达到1.5mm。
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喷射电极技术
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采用国际的喷射电极技术,使用钨材料电极,在激发状态下,电极周围会形成氩气喷射气流,这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触,提高激发精度
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集成气路模块
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气路系统采用气路模块免维护设计,替代电磁阀和流量计,电极自吹扫功能,为激发创造了良好的环境。
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数字化激发光源
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数字激发光源,采用国际最为先进的等离子激发光源,超稳定能量释放在氩气环境中激发样品;
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全数字激发脉冲,确保激发样品等离子体超高分辨率和高稳定率输出;
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可任意调节光源的各项参数,满足各种不同材料的激发要求。
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高速数据采集
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仪器采用高性能CMOS检测元件,具有每块CMOS单独超高速数据采集分析功能,并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。
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以太数据传输
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计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议,避免电磁干扰,光纤老化的弊端,同时计算机和打印机完全外置,方便升级和更换;
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可以远程监控仪器状态,多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。
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预制工作曲线
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备有不同材质和牌号的标样库,仪器出厂时工厂预制工作曲线,方便安装调试和及时投入生产;
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根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异,激发和测试参数仪器出厂时已经调节好,根据分析程序可自动选择测试条件;
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技术规格中附有分析范围(并可根据用户提供标样免费绘制或延长工作曲线)。
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分析速度快
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分析速度快,仅需20秒即可完成一次分析;
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针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及测量时间,使仪器用最短时间达到的分析效果。
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多基体分析
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光路设计采用罗兰圆结构,检测器上下交替排列,保证接收全部的谱线,不增加硬件设施,即可实现多基体分析;
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二、技术参数
(-):测量范围和应用
| 应用领域
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冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。
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可检测基体
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铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。
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光学系统
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帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
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波长范围
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110~980nm
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光栅焦距
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401mm
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探 测 器
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高性能CMOS阵列/CCD阵列传感器
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光源类型
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数字光源,高能预燃技术(HEPS)
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放电频率
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100-1000Hz
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放电电流
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500A
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工作电源
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AC220V 50/60Hz 1000W
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仪器尺寸
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900*765*460mm
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仪器重量
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约90kg
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检测时间
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依据样品类型而定,一般20S左右
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电极类型
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钨材喷射电极
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分析间隙
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4mm
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其他功能
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真空,温度,软件自动控制压力,通讯监测
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