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在相变存储领域，过渡金属掺杂的碲化锑合金靶材的传统制备方法是熔炼铸造法。熔炼铸造法主要以块体金属或块体金属与块体非金属作为原料，经过熔炼和浇注成形，制备所需靶材。
接合技术
我们作为溅射靶材制造商，通过大量的生产经验为每种材料选择合适的接合方法。并且对每一个完成品靶材进行检测，保证它的品质。
溅射靶材是一种通过溅射法生成薄膜的材料，由金属及陶瓷加工制造而成。
我们通过将熔化技术，烧结技术，合成技术以及加工技术进行技术融合，可以对各种素材，纯度以及形状的产品进行处理。
各种溅射靶材的产品例
金属靶材
Al, Co, Cu, Fe, Mg, Mn, Sn
Cr,Mo,Nb,Ta,Ti,V,W系列的合金
Al, Bi, Cu, Mg, Sn, Zn系列的合金/ Bi2Te3, Mg2Si
Co, Fe, Ni系列的合金/ Co-Fe-B, Co-Pt, Fe-Pt
Co, Fe, Ni基赫斯勒合金
Mn-Al, Mn-Bi, Mn-Ga, Mn-Ir, Mn-Si
Au,Ag,Pt,Pd系列的合金
无机化合物靶材
Al2O3,MgO,SiO2,TiO2,ZnO,La2O3
ITO,PZT,STO,LiCoO2,Li4Ti5O12,Li3PO4
SiC,B4C,WC
氮化物，氟化物，磷化物，硫化物，硒化物
复合靶材
Co-Cr-Pt, Fe, Fe-Ni, Fe-Pt等各种纯金属?合金
Al2O3, MgO, SiO2等各种氧化物?氮化物
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