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NS3500 Solar 半导体晶圆质量检测系统
NS-3500 Solar 是一种可靠的半导体晶圆检测系统。通过快速光学扫描模块和信号处理算法实现实时共焦显微图像。在测量和检测微观三维结构,可以为半导体晶片,FPD产品,MEMS设备,玻璃基板,材料表面等提供各种解决方案。

Features & Benefits(性能及优势):
高分辨无损伤光学3D测量 自动倾斜补偿
实时共焦成像 简单的数据分析模式
多种光学变焦 双Z扫描
大范围拼接 半透明基材的特征检测
实时CCD明场和共聚焦成像 无样品准备
自动聚焦
Application field(应用领域):
NS-3500是测量低维材料的有前途的解决方案。
可测量微米和亚微米结构的高度,宽度,角度,面积和体积,例如
-半导体:IC图形,凹凸高度,线圈高度,缺陷检测,CMP工艺
- FPD产品:触摸屏屏幕检测,ITO图案,LCD柱间距高度
- MEMS器件:结构三维轮廓,表面粗糙度,MEMS图形
-玻璃表面:薄膜太阳能电池,太阳能电池纹理,激光图案
-材料研究:模具表面检测,粗糙度,裂纹分析


Specifications(规格):
| Model
|
Microscope NS-3500 Solar
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备注
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物镜倍率
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10x
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20x
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50x
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100x
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观察/ 测量范围
|
水平 (H): μm
|
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700
|
280
|
|
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垂直 (V): μm
|
1050
|
525
|
210
|
105
|
| |
|
工作范围: mm
|
16.5
|
3.1
|
0.54
|
0.3
|
| |
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数值孔径(N.A.)
|
0.30
|
0.46
|
0.80
|
0.95
|
| |
|
光学变焦
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x1 to x6
|
| ||||
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总放大倍率
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178x to 26700x
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| ||||
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观察/测量光学系统
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Pinhole共聚焦光学系统
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高度测量
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测量扫描范围
|
400 um
|
注 1
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显示分辨率
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0.001 μm
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| ||||
|
重复率 σ
|
0.010 μm
|
注 2
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帧记忆
|
像素
|
1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96
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| |||
|
单色图像
|
12 bit
|
| ||||
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彩色图像
|
8-bit for RGB each
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| ||||
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高度测量
|
16 bit
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帧速率
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表面扫描
|
20 Hz to 160 Hz
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| |||
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线扫描
|
~8 kHz
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| ||||
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激光共焦测量光源
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波长
|
405nm
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| |||
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输出
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~2mW
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激光等级
|
Class 3b
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| ||||
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激光接收元件
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PMT (光电倍增管)
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| ||||
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光学观察光源
|
灯
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10W LED
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| |||
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光学观察照相机
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成像元件
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1/2” 彩色图像 CCD 传感器
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| |||
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记录分辨率
|
640x480
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自动调整
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增益, 快门速度, White balance
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| ||||
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数据处理单元
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PC
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电源
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电源电压
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100 to 240 VAC, 50/60 Hz
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电流消耗
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500 VA max.
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| ||||
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重量
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显微镜
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Approx. ~50 kg (Measuring head unit : ~12 kg)
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控制器
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~8 kg
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隔振系统
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气浮光学平台隔振系统
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Option
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注1:精细扫描由压电执行器(PZT)执行。
注2 :以100×/ 0.95物镜对标准样品(步长1μm)进行100次测量。