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PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。
产品特色
负载循环控制，模拟功率控制
处理机存储
水冷底座
减少污水排放
安全保护设计
操作简便 维护方便
应用范围：
混合电路板制造中基片的清洗
打线工艺前清洗电子部件，提高其可靠性
锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗
清洗半导体元器件
光刻胶去胶
上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备
镀膜前对光学器件清洗
清洗石英、蓝宝石及其它材料
适用工艺：
打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫；
去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物；
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件；
塑胶密封剂去除--失效模式分析
型号
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PPC862
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PPC973
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反应舱尺寸(H*W*D)
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203mm x 152 mm x 50mm
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229 x 178 x 76 mm
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冷却面(H*W)
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203 mm x 152 mm
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229 mm x 178 mm
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反应舱
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方形舱体
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方形舱体
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反应舱材质
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派热克斯玻璃&铝材
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派热克斯玻璃&铝材
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水冷式
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水冷装置
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水冷装置
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负载比
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10%至连续性
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10%至连续性
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标准流量
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5cu-ft./Hr.@STP
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5cu-ft./Hr.@STP
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频率(GHz)
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2.45 GHz
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2.45 GHz
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功率(Watts)
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100至750之间调节
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100至750之间调节
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重量 (Kg)
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29.5kg
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38.5kg
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真空泵系统
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抽气速率3.8cfm/分
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抽气速率3.8cfm/分
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产品相关关键字： 微波等离子清洗机 2.45GHz等离子清洗机 等离子去胶机 等离子清洗机 等离子刻蚀机
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