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| 品牌 |
远大真空 |
型号 |
600-2000mm |
| 类型 |
光学机 |
材质 |
不锈钢炉体 |
| 加工定制 |
否 |
|
光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。两个电子枪源位于基板两边，周围是环形罩并被挡板覆盖。离子源位于中间，光控窗口在离子源的前方。真空室里有含6个圆形夹具的行星系统。夹具用于放置被镀膜的光学元件。使用行星系统是保证被蒸发材料在夹具区域内均匀分布的方法。夹具绕公共轴旋转，同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部，驱动轴遮挡晶控。背面的大开口通向附加的高真空泵。基底加热系统由4个石英灯组成，真空室的两边各两个。
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真空镀膜是-7I有发展前景的表面涂覆应用技术，它具有一系列其它工艺不可取代的优异特点：不受被镀元件的材料及形状的影响。镀膜的厚度可以控制、一般为十分之几或百分之几微米；可镀功能性表面镀层，无须象化学镀银那样进行补充抛光。因而，它被广泛地应用于电子设备、天文观测设备、仪器、仪表方面，而且还可用于装饰、玩具、闹钟外壳、服装等有关行业。
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