晶迈中科硼(B)靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

　　2351 硼(B)靶材磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

　　【参数说明】

　　支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

　　【产品介绍】

　　中文名称：硼

　　英文别名：Boron，amorphous

　　CAS号：7440-42-8

　　元素符号：B

　　相对原子质量：10.811

　　性状：黑色或深棕色粉末。在常温时为弱导体，而在高温时导电良好。痕量碳的搀合物能使传导率提高。在空气中氧化时由于三氧化二硼膜的形成，而起自身限制作用，当温度在1000℃以上时，氧化层才蒸发。常温时能与氟反应。不受和水溶液的影响。与熔化的，或一种碳酸钠和熔化混合物能剧烈反应。粉末能溶于沸和，以及大多数熔融的金属如铜、铁、锰、铝和钙。不溶于水。相对密度2.350。熔点约2300℃。沸点3658℃。

　　储存：密封保存。

　　用途：耐高温合金工业。温度表。催化剂。陶器。植物营养剂。半导体。核化学中用作中子吸收剂。

　　【关于我们】

　　服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

　　产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

　　适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

　　质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

　　加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

　　陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

　　我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

　　注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

　　建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。

　　我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。