晶迈中科金属钽Ta靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

晶迈中科金属钽Ta靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

价格 900.00
起订量 10㎡
货源所属商家已经过真实性核验
品牌 晶迈中科
型号 2331
关键字
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北京晶迈中科材料技术有限公司
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主营:
根据客户要求定制销售各种规格的金属靶材,陶瓷靶材,合金靶材和蒸发料

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产品详情
型号

2331

钽含量

99.95

杂质含量

0.05

用途

科研实验

规格

联系客服定制

  2331 钽(Ta)靶材磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

  【参数说明】

  支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

  【产品介绍】

  钽,金属元素,主要存在于钽铁矿中,同铌共生。钽的硬度适中,富有延展性,可以拉成细丝式制薄箔。其热膨胀系数很小。钽有非常出色的化学性质,具有极高的抗腐蚀性。虽然钽的抗腐蚀性很强,但是其抗腐蚀性是由于表面生成稳定的五氧化二钽(Ta2O5)保护膜。无论是在冷和热的条件下,对、浓及"王水"都不反应。可用来制造蒸发器皿等,也可做电子管的电极、整流器、电解电容。医疗上用来制成薄片或细线,缝补破坏的组织。

  中文名

  

  

  

  熔点

  

  2996°C

  

  化学式

  

  Ta

  

  沸点

  

  5425°C

  

  相对原子质量

  

  180.9479

  

  密度

  

  16.654 g/cm3

  

  【关于我们】

  服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

  产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

  适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

  质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

  加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

  陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

  我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

  注 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

  建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

  我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

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