QCYQ-JS9000B型矿石专用光谱分析仪

QCYQ-JS9000B型矿石专用光谱分析仪

价格 面议
起订量 10㎡
货源所属商家已经过真实性核验
品牌 乾诚仪器
型号 QCYQ-JS9000B
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南京乾诚检测仪器有限公司
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主营:
矿石分析仪

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产品详情
型号

QCYQ-JS9000B

类型

矿石元素分析仪器

测量范围

0.1-99

测量时间

5

测量精度

国标

电源电压

220

用途

矿石产生 加工

加工定制

重量

80

产地

南京

厂家

南京乾诚检测仪器有限公司

  QCYQ-JS9000B 矿石专用光谱分析仪主要应用于采矿作业(勘探、开采、品位控制),工业矿物,生产水泥和建筑材料的原材料,耐火材料,陶瓷和玻璃,地球化学学术研究,考古等。线性动态范围,可实现在水泥、矿物、采矿、金属、玻璃和陶瓷行业进行精度的过程控制和质量控制。具有全新真空光路系统和分辨率技术的新一代fast sdd检测器,对轻、中、重元素和常见氧化物(Na2o、Mgo、Al2o3、Sio2、P2o5、So、k2o、Cao、Tio2、Cr2o、Mno、Fe2o、Zno和sro等)都可达到分析效果。

  分析性能,使其可以轻松完成对以下矿种的测试:

  铁矿(磁铁矿、赤铁矿、钛铁矿、菱铁矿等)

  铜矿(黄铜矿、赤铜矿、孔雀石等) 铬矿(铬铁尖晶石、铬铁矿、铬铋矿等)

  钼矿(辉钼矿、铜钼矿、钨钼矿等) 钨矿(白钨矿、黑钨矿、锡钨矿等)

  钽矿(钽铁矿、铌铁矿、烧绿石等) 铅锌矿(方铅矿、闪锌矿、白铅矿等)

  镍矿(红土镍矿、硫化铜镍矿等) 铝土矿 其它矿类

  QCYQ-JS9000B 矿石专用光谱分析仪有以下特点

  先进制成Peltier电制冷 FAST SDD硅漂移检测器

  真空光路配备薄膜滤光片技术,提高轻元素检出限

  可同时分析40种元素

  可分析固体,液体,粉末和泥浆

  原装进口X光管管芯提供可靠样品激发性能

  无损检测,快速分析(3-4分钟出结果)

  无需化学试剂,无耗材,更环保,更高效

  QCYQ-JS9000B 矿石专用光谱分析仪产品特点

  1.小型化、高性能、高速度、易操作,高灵敏度、高精度分析

  2.可同时分析40种元素

  3.采用多准直器多滤光片和扣背景专利技术

  4. Peltier电制冷 FAST SDD硅漂移检测器提供出色的短期重复性和长期再现性以及出色的元素峰分辨率

  5.超高记数数字多道电路设计,双真空抽速机构,真空度自动稳定系统

  6.标配基本参数法软件,多任务,多窗口操作

  7.专利薄膜滤光片技术,有效提高轻元素检出限

  QCYQ-JS9000B 矿石专用光谱分析仪仪器参数

  仪器外观尺寸: 565mm*385mm*415mm

  

  超大样品腔:465mm*330mm*110mm

  

  半封闭样品腔(抽真空时):Φ150mm×高75mm

  

  仪器重量: 48Kg

  

  元素分析范围:Na11-U92钠到铀

  

  可分析含量范围:1ppm- 99.99%

  

  探测器:AmpTek 超高分辨率电制冷Fast SDD硅漂移检测器

  

  探测器分辨率:122 eV FWHM at 5.9 keV

  

  处理器类型:全数字化DP-5分析器

  

  谱总通道数:4096道

  

  X光管:高功率50瓦光管(原装进口管芯),冷却方式:硅脂冷却

  

  光管窗口材料:铍窗

  

  准直器:多达8种选择,最小0.2mm

  

  滤光片:7种滤光片的自由选择和切换

  

  高压发生装置:原装美国高压,电压输出:0-50kV;输出电流:0-1mA

  

  高压参数:最小5kv可控调节,自带电压过载保护,输出精度:0.01%

  

  样品观察系统:500万像素高清CCD摄像头

  

  电压:220ACV 50/60HZ

  

  环境温度:-10 °C 到35 °C

  

  仪器配置

  >标准配置

  

  >可选配置

  

  纯Ag初始化标样

  

  磨样机

  

  真空泵

  

  压片机

  

  矿石专用样品杯

  

  烘干箱

  

  USB数据线

  

  全自动熔样机

  

  电源线

  

  电子秤

  

  测试薄膜

  

  矿石标准物质

  

  仪器出厂和标定报告

  

  交流净化稳压电源

  

  保修卡

  

  150目筛子

  

  全新设计的XTEST分析软件

  软件内核包括基本参数法(FP),经验系数法(EC),可轻松分析各类样品。

  光谱处理参数包括用于定义背景连续性,堆积峰和峰总和,平滑度以及测量到的峰背景光谱的数量

  对吸收以及厚膜和薄膜二次荧光的完全校正,即所有基质效应,增强和吸收。

  谱显示:峰定性,KLM标记,谱重叠比较,可同时显示多个光谱图

  可以通过积分峰的净面积或使用测得的参考光峰响应,将光峰强度建模为高斯函数。

  可以使用纯基本参数方法,具有分散比的基本参数(对于包含大量低Z材料的样品)或通过简单的最小二乘拟合进行定量分析。

  基本参数分析可以基于单个多元素标准,多个标准或没有标准的样品。

售后服务

商家电话:
13851592298