联系人:范茂海
邮箱:tcfxyq@163.com
电话:13851592298
地址: 江苏南京市高淳县高淳区北岭路166号
| 检测器类型 |
新一代Fast SDD检测器 |
光路系统 |
全新真空光路系统 |
| 分析元素范围 |
轻、中、重元素及常见氧化物 |
典型分析氧化物 |
Na2O, MgO, Al2O3, SiO2, P2O5, K2O, CaO等 |
| 应用领域 |
采矿、水泥、玻璃、陶瓷、考古等 |
技术特点 |
高线性动态范围、高分辨率 |
| 检测方式 |
非破坏性X射线荧光分析 |
适用场景 |
过程控制、质量控制、品位控制 |
X射线荧光光谱仪是一种基于X射线荧光原理的非破坏性元素分析仪器,主要解决现场快速定性定量检测难题。它广泛应用于采矿作业中的勘探、开采及品位控制环节,同时也服务于工业矿物、水泥生产、建筑材料原材料筛选、耐火材料、陶瓷和玻璃制造等领域。该设备能够满足地球化学学术研究及考古文物分析的精度要求,通过线性动态范围技术,实现在复杂工况下对多种基体材料的精准过程控制和质量监控,是现代化工业检测与科研分析的重要工具。
该X射线荧光光谱仪采用全新真空光路系统,结合高分辨率技术,显著提升了检测灵敏度与稳定性。核心部件搭载新一代Fast SDD检测器,具备优异的能量分辨率和计数率处理能力,确保在长时间工作下的数据重现性。仪器支持对轻、中、重元素进行全面覆盖,特别针对常见氧化物如Na2O、MgO、Al2O3、SiO2、P2O5、SO3、K2O、CaO、TiO2、Cr2O3、MnO、Fe2O3、ZnO和SrO等提供精确的分析效果。执行标准符合国际通用的XRF测试规范,适应实验室及野外现场的双重环境需求。
在选型X射线荧光光谱仪时,需明确应用场景是侧重于矿山现场的快速筛查还是实验室的高精度复检。本机型凭借宽线性动态范围,适合需要同时处理高低含量样品的用户,尤其适用于水泥配料控制、金属合金牌号鉴别及玻璃成分分析。与传统的湿化学分析法相比,X射线荧光光谱仪无需繁琐的前处理过程,大大缩短了检测周期。若主要关注轻元素(如钠、镁)的检测下限,应重点考察其真空光路系统的密封性能及探测器窗口材质,以确保低能X射线的透过率。
分析性能,使其可以轻松完成对以下矿种的测试:
铁矿(磁铁矿、赤铁矿、钛铁矿、菱铁矿等)
铜矿(黄铜矿、赤铜矿、孔雀石等) 铬矿(铬铁尖晶石、铬铁矿、铬铋矿等)
钼矿(辉钼矿、铜钼矿、钨钼矿等) 钨矿(白钨矿、黑钨矿、锡钨矿等)
钽矿(钽铁矿、铌铁矿、烧绿石等) 铅锌矿(方铅矿、闪锌矿、白铅矿等)
镍矿(红土镍矿、硫化铜镍矿等) 铝土矿 其它矿类
产品特点
1.小型化、高性能、高速度、易操作,高灵敏度、高精度分析
2.可同时分析40种元素
3.采用多准直器多滤光片和扣背景技术
4. Peltier电制冷 FAST SDD硅漂移检测器提供出色的短期重复性和长期再现性以及出色的元素峰分辨率
5.超高记数数字多道电路设计,双真空抽速机构,真空度自动稳定系统
6.标配基本参数法软件,多任务,多窗口操作
7.薄膜滤光片技术,有效提高轻元素检出限
>仪器参数
| 仪器外观尺寸: 565mm*385mm*415mm |
| 超大样品腔:465mm*330mm*110mm |
| 半封闭样品腔(抽真空时):Φ150mm×高75mm |
| 仪器重量: 48Kg |
| 元素分析范围:Na11-U92钠到铀 |
| 可分析含量范围:1ppm- 99.99% |
| 探测器:AmpTek 超高分辨率电制冷Fast SDD硅漂移检测器 |
| 探测器分辨率:122 eV FWHM at 5.9 keV |
| 处理器类型:全数字化DP-5分析器 |
| 谱总通道数:4096道 |
| X光管:高功率50瓦光管(原装进口管芯),冷却方式:硅脂冷却 |
| 光管窗口材料:铍窗 |
| 准直器:多达8种选择,最小0.2mm |
| 滤光片:7种滤光片的自由选择和切换 |
| 高压发生装置:原装美国高压,电压输出:0-50kV;输出电流:0-1mA |
| 高压参数:最小5kv可控调节,自带电压过载保护,输出精度:0.01% |
| 样品观察系统:500万像素高清CCD摄像头 |
| 电压:220ACV 50/60HZ |
| 环境温度:-10 °C 到35 °C |
仪器配置
| >标准配置 | >可选配置 |
| 纯Ag初始化标样 | 磨样机 |
| 真空泵 | 压片机 |
| 矿石专用样品杯 | 烘干箱 |
| USB数据线 | 全自动熔样机 |
| 电源线 | 电子秤 |
| 测试薄膜 | 矿石标准物质 |
| 仪器出厂和标定报告 | 交流净化稳压电源 |
| 保修卡 | 150目筛子 |
全新设计的XTEST分析软件
软件内核包括基本参数法(FP),经验系数法(EC),可轻松分析各类样品。
光谱处理参数包括用于定义背景连续性,堆积峰和峰总和,平滑度以及测量到的峰背景光谱的数量
对吸收以及厚膜和薄膜二次荧光的完全校正,即所有基质效应,增强和吸收。
谱显示:峰定性,KLM标记,谱重叠比较,可同时显示多个光谱图
可以通过积分峰的净面积或使用测得的参考光峰响应,将光峰强度建模为高斯函数。
可以使用纯基本参数方法,具有分散比的基本参数(对于包含大量低Z材料的样品)或通过简单的最小二乘拟合进行定量分析。
基本参数分析可以基于单个多元素标准,多个标准或没有标准的样品。
使用X射线荧光光谱仪时,需注意样品表面的平整度与清洁度,粉末样品建议压片或装入专用样品杯以保证测试结果的一致性。日常维护中,应定期检查真空泵油位及管路密封性,防止漏气影响轻元素分析精度。探测器窗口膜易损,避免尖锐物体接触,定期用无水乙醇轻轻擦拭仪器外壳及测试窗口。常见故障包括基体效应干扰,可通过建立标准曲线或使用经验系数法进行校正。长期不使用时,应定期开机预热,保持电子元件干燥稳定,延长仪器使用寿命。