雷尼替丁二氧化硅分散研磨机，甲晴米胺二氧化硅分散研磨机

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　　IKN药品研磨分散方面有成功的经验 公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导！

　　纳米SiO2具有高吸收性、分散性、增稠性，在药物制剂中得到了广泛的应用。如在雷尼替丁、甲晴米胺、派仑西平等药物中，加入少量的纳米SiO2可改变其流动性。

　　在雷尼替丁、甲氰咪胍（甲腈米胺）、派仑西平（派仑西平）等药物中加入少量纳米 SiO?确实可以改变其流动性，原因如下：

　　纳米 SiO?的特性：纳米 SiO?具有的比表面积和表面能，表面存在大量的硅羟基，使其具有良好的吸附性能和表面活性。

　　改善流动性的机制：当纳米 SiO?添加到药物中时，它可以吸附在药物颗粒表面，一方面起到隔离作用，防止药物颗粒之间的团聚，使药物颗粒能够更均匀地分散；另一方面，纳米 SiO?的表面硅羟基可以与药物颗粒表面的某些基团相互作用，改变药物颗粒表面的性质，降低颗粒间的摩擦力和粘附力，从而提高药物的流动性。

　　以雷尼替丁为例，加入纳米 SiO?后，原本可能因吸湿或自身性质而容易聚集的雷尼替丁颗粒，在纳米 SiO?的作用下能保持较好的分散状态，流动性得到明显改善，这有利于药物在制剂过程中的处理，如粉末的输送、混合以及压片等操作，药品质量的稳定性和一致性。同样，对于甲氰咪胍和派仑西平，纳米 SiO?也能通过类似的机制发挥改善流动性的作用，有助于提高这些药物制剂生产过程的效率和产品质量。

　　药品制备中要解决粉体粉碎和粉体团聚问题：

　　粉体的团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小，表面原子比例大，比表面积大，表面能大，处于能量不稳定状态，因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起，很容易团聚，形成团聚状的二次颗粒，乃至三次颗粒，使粒子粒径变大，在每个颗粒内部有细小孔隙。

　　纳米颗粒的团聚一般分为两种：软团聚和硬团聚。对于软团聚机理，人们的看法比较一致，即，软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致，由于作用力较弱，可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。对于硬团聚，不同化学组成不同制备方法有不同的团聚机理，无法用统一的理论来解释。因此需要采取一些特殊的方法来对其进行控制。

　　IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通分散机很难做到连续长时间的运行，并且普通分散机不能承受高转速的运行。具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散的稳定性，能够有效粉体粉碎和粉体团聚问题。

　　IKN研磨分散机具有设计紧凑、实用新型，外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料理想的加工设备。

　　它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度减小，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。

　　磨头结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而国内研磨机的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。Ikn设备可以***物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在磨头到另外磨头形成研磨效果。

　　可以通过变频调速，通过皮带加速 我们轴承可以承受14000RPM，(转速是国内研磨机的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小)。德国博格曼双端面机械密封，易于清洗，将泄漏降至***，可24小时不停运转双机械密封。

　　第1级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽，定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离，在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时，可以顺畅进入研磨分散机腔体，通过高速旋转的精细度递升磨头，终得到微纳米级的物料颗粒。

　　第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验***工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。