电子工业纯化水设备

　　电子研究所EDI超纯水项目成套设备，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级）

　　设计原则： ☆ 品质---依照客户生产所需超纯水的水质要求及生产特点，并考虑水源的水质（需客户提供水质分析报告或源水样品）。

　　☆ 可扩充性—系统分段设计规划，考虑就近用水和生产安全需要，可依照生产线需求随时扩充产能，客户可分阶段投资。电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水 黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制 集成电路生产中高纯水清洗硅片。二、典型工艺流程预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(新工艺)预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） (新工艺) 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(新工艺)