| 型号 |
单片清洗机 |
用途 |
工业用 |
| 加工定制 |
是 |
清洗方式 |
前道制程，先进封装制程， 凸块制程等 |
| 清洗方式 |
于镀 膜前、 上光阻前、 蚀刻後、 离子子植入后、 CMP后及 flux Clean等晶圆清洗制程 |
外形尺寸 |
1800 (W) x 1800 (D) x 2000(H) mm |
| 产地 |
苏州 |
厂家 |
苏州清芯卓半导体设备有限公司 |
清芯卓单片清洗机
显影:
适合各式凸块、RDL 及封裝制程之光阻显影， 先进制程8寸、 12寸晶圆显影液 Spray、 Puddle 、Spin 工艺
清洗:
前道制程，先进封装制程， 凸块制程等, 于镀 膜前、 上光阻前、 蚀刻後、 离子子植入后、 CMP后及 flux Clean等晶圆清洗制程
蚀刻:
UBM、RDL 、BGBM及各种金属层的刻蚀，去光阻 各式晶圆之厚膜光阻清洗及 metal lift off 制程光阻去除
光罩清洗：
掩膜版的清洗， 光阻去除
Footprint : 1800 (W) x 1800 (D) x 2000(H) mm
15370062558