EA9-T15CL Automation Direct 增量光学编码器

　　EA9-T15CL Automation Direct 增量光学编码器

　　详细描述

　　5月7日，重庆摩方精密科技股份有限公司（以下简称：摩方精密）正式发布复合精度光固化3D打印技术，面向全球推出Dual系列(以下简称:D系列)设备：microArch® D0210和microArch® D1025，有效解决增材制造中高精度和大幅面的固有矛盾，再次实现工业级微纳3D打印技术新突破。

　　D系列设备依旧保持了摩方精密超高精密、超高公差控制能力，全新搭载复合精度光固化3D打印技术，新增自动化操作平台，使工业级3D打印更智能、更稳定、更高效。在快速原型制作上，为精密电子、生物医疗、通讯、半导体等高精密行业的创新应用带来全新解决方案。

　　创新突破，复合精度解决光固化技术难题

　　在光固化领域，存在几组固有矛盾。一是打印精度越高，支持打印的幅面尺寸越小；二是模型结构越复杂，切片及后续成型的难度就越大。不管哪种矛盾，都会直接影响打印的整体质量和效率。

　　摩方精密此次发布的复合精度光固化3D打印技术，核心是组合并自由切换多精度的3D打印光学系统，其中，低精度镜头适用于快速打印大幅面样件，高精度镜头专注于打印极其微小的特征，有效解决精度固定对打印效率的限制。其超高精度复合式跨尺度的加工能力，使同层（XY轴方向）和不同层（Z轴方向）均能实现不同精度的切换打印，平衡了打印精度与幅面大小的矛盾问题，为各行业用户提供更加灵活且高效的打印方式。

　　作为摩方精密全球搭载复合精度光固化3D打印技术的D系列设备，共推出两款新型号：microArch® D0210和microArch® D1025，其中D0210实现2μm和10μm两种精度的切换，D1025是在10μm和25μm进行切换，两种精度的自由切换能力，不仅支持应对各种复杂的生产任务，还能在多种材质和复杂结构的产品制造上发挥出色，赋予用户更多的研发和设计空间。

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