ACS200 Gen3TE自动涂胶显影机苏斯微SUSS MicroTec

　　代理德国苏斯微SUSS MicroTec喷墨打印机、涂胶机与显影机、光刻机、贴片机、俺膜机

　　ACS200 Gen3TE涂胶显影机德国SUSS MicroTec

　　ACS200 Gen3TE涂胶显影机德国SUSS MicroTec

　　销售负责人：吴经理 132.4667.5433

　　ACS200 Gen3 TE涂胶显影机：化产能的全自动平台

　　SUSS ACS200 Gen3 TE平台将ACS200 Gen3这款非常成功且市场熟知的产品提升到了一个新的高度。不仅在产能上有了显巨提高，在操作和维护上也更加舒适。SUSS ACS200 Gen3 TE能够提供非常灵活的模块和技术配置，以满足先进封装、MEMS、LED和其他市场的要求，并为研发和HVM提供服务。

　　介绍：

　　基础框架经过重新设计，可配置多达6个旋转工艺模块，并可在这些模块上方配置冷热板组。此外，动态对中（IMOC）功能的引入，即晶圆传送时的“动态”定心，进一步提高了整体产能。为了满足的ESD标准，并为操作员和技术人员提供更高的舒适度，该平台已经进行更新。第二屏幕可根据个人需要进行配置，可以用来显示摄像头以及设备/模块的状态，并且可以处理测量数据。外围配套设备也得到了显著改进，特别是新推出的Flexi Media Cabinet，整洁、标准化程度高。由于采用PiXDRO技术的SUSS JETx喷墨模块已完全集成到该平台中，使得该平台支持下一代材料沉积技术，且仍具有添加其他模块的能力。同时，已经引入了标准制造接口（SMIF）加载端口。此外，流量控制器系统为有机溶剂和显影工艺应用提供了非常出色的喷液精度。

　　ACS200 Gen3 TE平台将继续提供的敞开式腔体涂布和SUSS专有的GYRSET?闭盖式涂布技术。广为接受的腔体设计将保持不变，因此能够实现将工艺从之前的平台到现在的轻松转移。

　　亮点：

　　多达6个旋转工艺模块

　　采用动态对中(IMOC)提高晶圆传送效率

　　超高的配置灵活性

　　可实现自动化系统的喷墨技术

　　操作舒适性高

　　标准制造接口(SMIF)负载端口

　　详细情况 : 显影工艺

　　在此工艺中，一定量的显影剂被滴在曝光后的衬底上，并通过适度的旋转分散开。 显影液因其表面张力在晶圆上形成凸状的液面（“Puddle”）。 当显影时间结束后，通过提高旋转速度甩干晶圆上的显影液。 然后，用去离子水冲洗晶圆并同样提高转速甩干。 这种方法的优点是，只需使用少量显影液，就能提供优异的显影结果。浸置式显影法不得用于显影液达到饱和时，例如当必须除去大量显影后的光刻胶时或者凹凸图形阻碍了更换显影液时。 在这些情况下，需多步使用浸置式显影或者使用喷涂式显影 。

　　德国SUSS MicroTec主要产品：

　　一、旋转涂胶机和喷雾涂胶机：

　　自动涂胶机与显影机：ACS300 Gen3、ACS300 Gen2、ACS200 Gen3、ACS200 Gen3TE

　　半自动涂胶与显影机：RCD8、ECD8

　　手动涂胶机与显影机：LabSpin6 / LabSpin8

　　二、喷墨打印机

　　JETxSM24喷墨打印机、JETx喷墨打印机、LP50打印机

　　三、光刻机、掩模对准机

　　全自动：MA300 Gen3、MA200 Gen3、MA100/150e Gen2

　　半自动：MA12 Gen3、MA8 Gen5、MA/BA Gen4 Series

　　手动：MJB4

　　四、测量系统

　　全自动:DSM8/200 Gen2

　　五、晶圆结合系统、自动贴片机

　　全自动：XBC300 Gen2 D2W/W2W、XBC300 Gen2、XBS300、XBS300W2W、XBS200

　　半自动： BA Gen4 Serie、DB12T、LD12、SB6/8Gen2、XB8

　　六、光掩模设备

　　全自动：MaskTrack Pro系列、ASx Serie

　　半自动：HMx Serie

　　七、投影扫描光刻机

　　全自动：DSC300 Gen3