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| 型号 |
FPULT-RSS |
类型 |
一体式 |
| 动力 |
电 |
清洗温度 |
35 |
| 加热功率 |
2000 |
电源 |
220 |
| 产地 |
www.f-lab.cn/asher.html |
厂家 |
www.f-lab.cn/asher.html |
晶圆去胶剥离机RSS系列是ULTRA光刻胶清洗机器,适合晶片、光掩模和基板清洗去胶剥离工艺需求。晶圆去胶剥离机RSSx 124、126、128或133专门配置用于晶片、光掩模和基板的基于负和正光致抗蚀剂的工艺。
(上述价格不准确，请您联系我们获得准确报价）
该晶圆去胶剥离机非常可靠且经济高效，采用了经过验证的各种光刻胶剥离和清洁技术。晶圆去胶剥离机RSSx可配置有多个清洁选项，包括liu酸过氧化物、表面活性剂和/或DI-H2O的刷子；用于DI-H2O或化学制品的Megasonic喷嘴；用于化学配药的低压喷嘴；化学和DI-H2O加热器；还有更多。快速有效的干燥技术结合了可变的旋转速度；可选加热的DI-H2O；和氮辅助。该晶圆去胶剥离机系统非常安全，具有“冲洗至pH”功能，可在接触基质之前去除腔室内的任何化学物质。
晶圆去胶剥离机特点
?设计用于重要控制和安全的系统
?可调式卡盘，可安装4x4”至9x9”半自动变速箱带腔室基板的标准光掩模,适合高达300mm直径晶圆
?能够实现65nm节点和更好的处理。
?带伺服电机的主轴组件。
?带可编程自动变速器的摆动电刷组件用于化学和加热的双yang水分配的上/下和自清洁。
?振荡加热的DI-H2O低压分配臂。
?背面加热的DI-H2O，用于剥离和干燥辅助。
?全密封和径向排气室，用于：来自盖子的N2进料的zui大层流。
?安全冲洗至整个工艺区域和基底的pH值禁止进入工艺和排水分流器的联锁装置用于化学和冲洗DI-H2O的阀门
?采用聚四涂层不锈钢的聚偏工艺室钢表面和独立聚机柜。
?带液位传感和数字传感器的化学用于Nano Strip®或Pure Strip®罐的流量计。
?具有三十（30）种配方的微处理器控制，具有：触摸屏图形用户，每个步骤三十（30）步可调节臂速度和行程的界面（GUI）位置、屏幕错误报告和安全封锁。
?带按钮打开/关闭的平盖
?RSSx124型：29.5英寸宽 35.25英寸深，最多两个处理臂
?RSSx126型：34.5英寸宽 35.25英寸深，最多四个工艺臂
?设计符合SEMI S2/S8指南
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