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磁控溅射离子镀是为扫描电镜SEM应用而设计的真空磁控溅射仪,是理想的金属镀膜仪器和喷金仪.磁控溅射离子镀采用磁控电极制冷溅射镀膜和低压等离子体放射技术,为均匀溅射提供保障。
磁控溅射离子镀提高了二次电子产生效率，屏蔽了SEM观察过程中样品周边的充电。
磁控溅射离子镀特色
磁控电极：水平装载靶材，放电，减少离子伤害和对样品的热损伤
真空镀膜：电流不通过样品，样品温度浮动极小
操作简单：开启EVAC按钮，就可自动溅射镀膜
磁控溅射离子镀规格
真空系统：蒸发速度20l/min
油旋转超真空度：2Pa
镀膜腔真空度：8-10Pa
靶盘与样品距离：25-35mm
镀膜腔尺寸：直径120mm, 深度65mm
靶材电极尺寸：直径55mm
靶材材料：Au-Pd, Au 或Pt -Pd ， Pt
样品台：直径50mm
尺寸：340x200x350mm
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