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| 型号 |
FPKLOE-Dilase650 |
运转方式 |
连续式 |
| 激励方式 |
电激励式 |
波段范围 |
近紫外 |
| 光路径 |
内光路 |
传输信号 |
单电源型 |
| 速度 |
高速 |
通道 |
双通道 |
| 加工定制 |
是 |
输出波长 |
365 |
| 产地 |
www.felles.cn/guangkeji.html |
厂家 |
www.felles.cn/guangkeji.html |
高分辨率激光直写光刻机是全球ling先的多功能激光光刻机，它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构，直写面积高达6英寸，最小特征尺寸（宽度）可达1微米，适合掩膜，半导体，玻璃，晶体，薄膜等诸多衬底。
高分辨率激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式，确保直接轨迹偏离小于100nm。微型激光直写光刻机具有电动光学聚焦系统，提供快速jing准的聚焦功能，从而适合各种厚度衬底的要求，并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配，增强清洁程度，提高工作量和用户安全程度。
高分辨率激光直写光刻机兼容大多数商用光刻胶，比如SU8，shipley, AZ等，我们还对K-CL胶特别优化，用于微结构应用。
高分辨率激光直写光刻机特色
非常紧凑的桌面型设计
掩膜制作和激光直写
激光光源375nm 或405nm 任选
兼容所有商用光刻胶
对比度高达1x20
自动聚焦
竖直直写或扫描直写模式
高分辨率激光直写光刻机参数
直线直写速度：高达500mm/s
位移台分辨率：100nm
重复精度：100nm
晶圆直写面积：1-6英寸
衬底厚度：250um-10mm
激光光斑大小：1um-50um
标准准直精度：500nm
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