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| 型号 |
MCML-120A |
运转方式 |
连续式 |
| 波段范围 |
近红外 |
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总览
产品特点
采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长
直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件
全自动化的对焦和套刻，易于使用
晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟
500um最小线宽
可灰度曝光（128阶）
尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间
应用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工
带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作
教学、科研
参数
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MCML-110A
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MCML-120A
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Wavelength 波长
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365nm
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365nm
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Max. frame 帧
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100mm x 100mm
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100mm x 100mm
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Resolution 分辨率
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1.0um
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500nm
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Grayscale lithography 灰度光刻
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64 levels
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128 levels
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Max exposure 曝光量
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500mJ/cm2
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2000mJ/cm2
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Alignment accuracy 对准精度
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<200nm
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<100nm
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field curvature 场曲率
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< 1 um
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< 1 um
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Speed 速度
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5mm2 /sec
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2.5mm2 /sec
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Input file 输入文件
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BMP, GDSII
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BMP, GDSII
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Z level accuracy Z级精度
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<1 um
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<1 um
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Environment 环境
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20~25℃
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20~25℃
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样品
（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）
13061644116