UniTemp 真空快速退火炉

　　RTP-200快速退火炉为德国优尼坦公司生产，分为RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四个型号，分别对应4英寸、6英寸、8英寸、12英寸的真空快速退火炉产品。

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　　技术规格：

　　- 温度：1200摄氏度；

　　- 升温速率：150摄氏度/秒；

　　- 降温速度：200摄氏度/分钟 (1000摄氏度-->400摄氏度)；

　　- 温控均匀性：≤ 1.5%设定温度；

　　- 加热方式：红外卤素灯，顶部及底部加热；

　　- 灯管数量及功率：18支/20千瓦(RTP-100)，24支/21千瓦(RTP-150)；

　　- 腔体冷却：水冷方式；

　　- 衬底冷却：氮气吹扫；

　　- 工艺气路：MFC控制，最多4路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)；

　　- 主机尺寸及重量：505mm x 504mm x 420mm (W x D x H)，约55Kg；

　　仪器特点：

　　- 真空快速退火炉，有低真空型号(10-3 hPa)、高真空型号(10-6 hPa)；

　　- 可在不同气氛环境下使用，如惰性气体、氧气、氢氮混合气等；

　　- 控制方式：SIMATIC, SPS人机界面控制，7英寸触摸屏；

　　- 可存储50个程序，每个程序最多分为50段控制；

　　- 全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空度、循环水均可自动设置；

　　- 优异的温控均匀性，的工艺重现性；

　　- 小尺寸台式设计；

　　应用领域：

　　- 离子注入/接触退火；

　　- 快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；

　　- 可在真空、惰性气氛、氧气、、混合气等不同环境下使用；

　　- SiAu, SiAl, SiMo合金化；

　　- 低介电材料；

　　- 晶体化，致密化；

　　- 太阳能电池片键合；

　　等等...

　　参考客户：

　　西安交通大学、西安电子科技大学、中国科技大学、江汉大学、中科院上海技术物理所、中科院苏州纳米所、北京航天仪器研究所、京东方、武汉光迅、能华微电子等。